拋光機(jī)是工件表面處理必要的設(shè)備，很多老司機(jī)總是在想，“能不能拋光效果更好一點(diǎn)，拋光工件的速度更快一點(diǎn)”。想要解決這兩個(gè)難題，我們首先要了解拋光機(jī)的拋光效果與速率與哪些因素有關(guān)，之后才能做對(duì)應(yīng)的調(diào)整改善。

拋光軌跡對(duì)拋光性能的影響

拋光精度，即拋光性能，是平面拋光機(jī)采購(gòu)商及供貨商共同關(guān)注的焦點(diǎn)。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。

平面拋光機(jī)的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對(duì)運(yùn)動(dòng)，有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡，行星式研磨軌跡等等。

定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機(jī)就是這種。

不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機(jī)的研磨拋光軌跡就是這種類型。

直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。平面研磨拋光機(jī)自修整機(jī)構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運(yùn)動(dòng)形式簡(jiǎn)單，如將研磨帶加長(zhǎng)可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。

搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢(shì)，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。

行星式平面研磨運(yùn)動(dòng)軌跡最常見(jiàn)用于雙面研磨機(jī)，當(dāng)改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽(yáng)轉(zhuǎn)速之比時(shí)，工作效率及材料去除率會(huì)發(fā)生變化。

影響平面拋光機(jī)工作速率的因素

平面拋光機(jī)的工作效率是決定工件出產(chǎn)功率的重要因素，可是影響拋光速率都取決于哪些因素呢，磨床對(duì)此深有研究，平面研磨機(jī)的運(yùn)作速率分別由發(fā)動(dòng)機(jī)，磨盤，程控體系三者起首要決議作用。

1、發(fā)動(dòng)機(jī)是硬件

發(fā)動(dòng)機(jī)質(zhì)量好壞直接影響磨盤的轉(zhuǎn)速和驅(qū)動(dòng)磨盤滾動(dòng)力，并影響工件和磨盤的對(duì)沖力度。

2、程控體系是歸于軟件體系

假如程控體系精確，反響靈敏，那么工件在研磨拋光的過(guò)程中，當(dāng)?shù)竭_(dá)某一個(gè)有效值時(shí)，程控體系就會(huì)敏捷的做出下一步指令，這就縮短機(jī)器呼應(yīng)的時(shí)間，從而能到達(dá)高功率的執(zhí)行各項(xiàng)指令，這也是機(jī)械自動(dòng)化中軟件體系的重要作用及優(yōu)勢(shì)。

3、拋光盤

拋光盤是平面拋光機(jī)上的一個(gè)主要組件，工件表明的研磨、精度等跟磨盤的選用休戚相關(guān)。拋光盤影響機(jī)器的運(yùn)作功率是因?yàn)閽伖饬Υ笮Q定著工件到達(dá)目標(biāo)拋光效果的時(shí)間。

工件是通過(guò)和拋光盤相對(duì)運(yùn)動(dòng)發(fā)生對(duì)沖來(lái)到達(dá)外表的平坦與潤(rùn)滑，所以磨料決定拋光盤的切削力，數(shù)量決定著轉(zhuǎn)速，進(jìn)而影響機(jī)器的運(yùn)作功率。

以上是關(guān)于“拋光機(jī)的拋光性能和工作速率受哪些因素影響”的相關(guān)內(nèi)容介紹，是不是對(duì)拋光機(jī)的使用有所幫助了呢？